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塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同,嚴格來(lái)說,模具的拋光應(yīng)稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光
本身有很高的要求,而且(qiě)對表麵平整度、的平滑(huá)度和幾何精度也有很高的標準(zhǔn)。表麵拋光(guāng)通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準
分為四個級(jí)別。
對於(yú)電解拋(pāo)光、流體拋光的過程中,它是難以準確地(dì)控製各(gè)部分(fèn)的幾何精度,由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光(guāng)的、表麵質量不是必需的,精密模具主要是基於機械拋(pāo)光。 。
1、半精細拋光(guāng)主要使用砂紙實驗室(shì)和煤油協會。
2、精密拋光主(zhǔ)要製作金剛石膏。通常的磨削,以除去為9um(#1800)-6um(#3000)-um是在殼體#1200和砂紙(8000)的#1500離開頭發的痕跡,拋光布為9um的(de)金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm(#14000)至1 /2μ
m(60000)至1 /4μm(#100000)量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或(huò)更大(包括1微米)的拋光工藝
必須是(shì)絕對清潔(jié)的空間,用於拋光模具。灰塵、煙(yān)霧,頭皮屑和唾液可(kě)能具有高精度拋光表麵,可在(zài)工作數小時後獲得。
3、為了獲得機械拋光(guāng)的基本程序,高質量的拋光(guāng)效果,最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙(zhǐ)和研(yán)磨膏等配件。最重要(yào)的是一(yī)個(gè)複雜的工作環境,需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決(jué)於先前加工的表麵狀(zhuàng)況,例如、 EDM加工,磨削。
4、機械拋光的一般過程(chéng)如(rú)下。粗拋、銑削、電火(huǒ)花、的處理之後磨削表麵可以被選擇(zé)在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA#400的輪子去(qù)除白色火花(huā)層。然後手動油石磨,金剛石
砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑(jì)。一(yī)般使用順序(xù)是#180 - #240 - #400 - #600 - #1000。
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